| TROUBLESHOOTING - 전해 연마 | |||||
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| 글쓴이 | 관리자 (IP: *.39.189.145) | 작성일 | 2017-08-03 14:05 | 조회수 | 3,258 |
TROUBLESHOOTING 문제 표면이 polishing 되지 않거나 일부만 polishing 됨 원인: 전류 밀도가 충분치 않음 해결책: 전압을 조절한다. 원인: 전해액이 너무 오래됨 해결책: 전해액을 교체한다. 원인: 전해액의 양이 충분치 않음 해결책: 전해액을 추가한다. Polishing 되지 않은 점이 보임 원인: 기체 기포 해결책: - Flow rate 를 조절한다. - 전해액의 온도를 확인한다. - 전압을 낮춘다. Polishing 된 표면에 에칭 현상 원인: 전류를 끈 후 입자 테두리에 화학적 손상. 해결책: - 전류를 끈 후 즉시 시편을 제거한다. - 부식성이 더 적은 전해액을 선택한다. 양각 현상 원인: Polishing film 이 부족함 해결책: - 전압을 높인다. - 시편의 기계적 가공을 개선한다. 원인: Polishing 시간이 너무 김 해결책: Polishing 시간을 줄인다. 구멍이 생김 원인: Polishing 시간이 너무 김 해결책: - 시편의 기계적 가공을 개선한다. - 시간을 줄인다. 원인: 전압이 너무 높음 해결책: 전압을 줄인다. 원인: 양극 레이어가 충분하지 않음 해결책: - Flow rate 을 낮춘다. - 다른 전해액을 사용한다. 시편 모서리 손상 원인: Film 의 점도가 너무 높거나 낮음 해결책: - 전압을 낮춘다. - Flow rate 를 높인다. 시편의 중앙이 깊이 손상되거나 아예 polishing 되지 않음 원인: Film 의 polishing 이 시편 중앙에 이루어지지 않음 해결책: - 전압을 높인다. - Flow rate 를 낮춘다. - 전해액을 추가한다. 표면에 물질이 쌓임 원인: 반응 제품이 용해되지 않음 해결책: - 전해액을 새로 교체하거나 다른 전해액을 사용한다. - 전압을 높인다. 표면이 물결치거나 또는 변형이 남아있음 원인: Polishing time 시간이 너무 짧음 해결책: 시간을 늘린다. 원인: Flow rate 가 너무 높거나 낮음 해결책: Flow rate 를 변경한다. 원인: 그라인딩 이후 남은 표면이 거침 해결책: 전해 연마에 앞선 가공 과정을 개선한다. 원인: 전해액이 너무 오래됨 해결책: 전해액을 교체한다. 원인: (여러 재질로 이루어진) 표면 상의 다양성으로 인해 특정 부분만 polishing 됨 해결책: 다른 polishing 데이터와 다른 전해액을 함께 사용하거나 대신 기계적 연마를 사용한다. |
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